进入科技发展日新月异的21世纪，微电子技术仍然是信息产业的主要技术支撑。MOS集成电路已成为微电子产业的核心，它在向高集成和低成本方向发展的过程中，遵循着3年增长4倍、特征尺寸每3年缩小倍的摩尔定律，带动着半导体制造设备的不断革新。
围绕这一目标，中国的科研人员们正在为中国的微电子技术不断发展而埋头苦干。作为其中一员，中国科学院光电技术研究所研究员严伟及其所在的团队，致力于研究微细加工技术，专注国家微电子装备研发近20年，为我国微电子技术追赶世界脚步注入了强大的动力。
光电探秘
2000年，毕业于四川大学的严伟和大多数年轻人一样，怀抱一腔热血，梦想着在科学研究领域有所作为，造福祖国与社会。为此，他毅然选择来到了同在四川成都的中国科学院光电技术研究所。如今16年过去了，他早已在祖国西部这个美丽的城市落地生根。
在光电所，严伟及其团队一直致力于微纳光学技术与微电子专用设备的研制工作，在微纳光学变换理论、光学测量方法以及纳米尺度微细加工方法领域有较为深入的研究。
提及设备和技术变革的动力，21世纪，光刻技术将继续居于诸多技术之首。而严伟及其团队研究的主要内容便是光刻技术。
2010年，严伟入选“西部之光”人才培养计划联合学者项目，以“用于微纳结构制作的步进投影数字光刻系统研制”项目为契机，突破了很多微纳装备核心关键技术。
在探索未知的科研道路上，总是荆棘密布，掌握和研发核心技术绝不只是口头说说那么简单。在“西部之光”项目中，要实现光诱导原位加工技术在微电子装备中的应用，不仅要实现超高的光刻分辨力，而且还需实现超大面积微纳结构制作。
然而，受限于高分辨光刻投影物镜的成像视场，单次曝光面积极为有限，所以需要对图像进行拼接。而在拼接过程中，工件台必须处于高速运动的状态，与数字掩模图像保持高同步性。
为此，严伟及其团队围绕如何提高精度和光刻质量做了大量实验分析。尽管重复性实验的过程是枯燥且乏味的，但团队中的每一个人都能够坚守岗位。
绳锯木断，水滴石穿。在科研团队的不懈努力下，实验终于取得了成功。团队突破了高均匀性照明、高速图形发生器、高分辨力大视场成像、纳米定位工件台等很多光刻的关键技术。而这些重大突破的背后镌刻着的，是严伟及其团队成员无数个不休不眠的日日夜夜。
在攻克多项技术难关的同时，严伟及其团队对于光刻技术的研究更加深入，为技术器件化提供了有力的知识储备。在随后的研究中，这些技术也被成功延伸应用到多种型号微纳加工和检测设备中，如首台数字掩模光刻机、首台光子筛激光直写光刻机、微透镜制备专用掩模移动光刻机、纳米压印光刻机、同轴全息微纳结构3D成像仪等。
截至目前，项目后期设备累计推广应用达到500多台，取得了良好的经济效益，其中有20多台出口美国、新加坡、朝鲜、越南，开创了国产微电子设备出口的先例，结束了我国微电子加工和检测设备完全依赖进口且受制国外的历史。
不仅如此，设备目前还广泛应用于微电子器件、声表面器件、红外探测器、衍射光学元件、微光机电系统、太阳能薄膜等微纳系统的加工与检测，为发现微纳结构在纳米尺度空间可能存在的新现象与新效应、探索基于纳米结构的新原理器件，提供了实用化专用设备。可以说，我国的微电子制造因为掌握了这些技术而迈出了新的一步，为国产芯片等电路板的研发制造提供了源动力。
情寄科研
“从事科学研究，要做好心理和身体的准备。”严伟平静地说。
或许在很多人眼中，科研工作者可以享受着舒适的办公环境，其实不然。只有深入到科研的第一线，科研人员才能敏锐地发现突破点；没有面对失败足够的心理准备以及吃苦耐劳的精神，科研工作就不可能走远。
不仅如此，要想提出一个富有创造性又可行的方案也绝不是一蹴而就的，同样需要大量的理论和实践经验的积累，并且要经过深入地思考，反复地推敲。
“每一天都要精神饱满。”这是严伟经常告诉学生的一句话。或许正是因为这种对待工作、对待科研的热情，才让他在科研的道路上越走越远。
当然，这种心理和身体的双重准备也一直是严伟及其团队追求并坚守的东西。在这个人数不多的小团队中，尽管成员专业不同，但因为有着相同的奋斗理念，才能够各展其能，攻克一个个难关。
作为获得“西部之光”惠及的科研工作者，严伟一直对这个帮助自己起飞的“朋友”有着特殊的情结。
“它给了我这样在西部的科研工作者更多的发展机会，让我获得了足够的物质和精神支持，为我解决了最重要的后顾之忧，更为我的科研发展提供了良性循环的动力。”谈及“西部之光”，严伟的感激之情溢于言表。
对于“西部之光”的未来，严伟信心满满，他对《科学新闻》记者表示：“相信会有越来越多的青年科研工作者在‘西部之光’的照耀下，不畏困难，奋力前行，助力西部科技跨越式发展！”■